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99.99% 고순도 맞춤형 고투명 석영 유리 원형 판
99.99%의 고순도 석영유리판으로 작동온도 1100℃, 경도 6.6의 반도체용 제품입니다. 맞춤형 펀칭, 절단 및 무료 샘플이 제공됩니다. 높은 투명성은 내구성과 효율성을 보장합니다.
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반도체용 맞춤형 연마 레이저 드릴링 석영 유리 시트 고순도 석영 플레이트
반도체 응용 분야를 위한 99.99% SiO2 순도를 갖춘 맞춤형 연마 레이저 드릴링 석영 유리 시트입니다. 높은 내열성(1100℃ 작동 온도), 밀도 2.2g/cm3가 특징이며 무료 샘플을 통해 맞춤형 절단/펀칭을 지원합니다.
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내열 1200°C 석영 유리판 (광 투과율 >92%, SiO2 순도 99.99%) - 태양로용
작동 온도 1150℃, 광 투과율 92%, SiO2 순도 99.99%의 내열 석영 유리판입니다. JGS1/JGS2/JGS3 표준에 따라 0.5-100mm 두께로 제공됩니다. 태양열로, 실험실 및 산업 응용 분야를 위한 맞춤형 제조 옵션입니다.
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맞춤형 고순도 99.99% SiO2 석영 유리판 내열 1150°C 고광 투과율 >92% 실험실 반도체용
99.99% SiO2 순도, >92% 광 투과율 및 1150℃ 작동 온도를 갖춘 맞춤형 원형 석영 유리 디스크입니다. 직경 1~800mm, 두께 0.2~100mm로 제공됩니다. 내열성, 내부식성 및 반도체, 실험실 및 산업 응용 분야에 맞게 맞춤화할 수 있습니다.
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고 순수 99.99% 녹은 실리카 판 광학 쿼츠 창을위한 1732C 녹는점과 1100C 작업 온도
99.99% SiO2, >92% 광 투과율, 1732℃ 융점 및 1150℃ 작동 온도를 갖춘 고순도 용융 실리카 플레이트입니다. 펀칭/절단 옵션이 있는 맞춤형 크기(직경 1~800mm, 두께 0.2~100mm). 반도체, 레이저 및 광학 응용 분야를 위한 JGS 표준, 내식성, 고온 내구성.
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고순도 99.99% SiO2 쿼츠 유리판, 자외선 투명성 92% 이상, 고온 저항성 1150°C
99.99% SiO2 순도, >92% 광 투과율 및 1150℃ 작동 온도를 갖춘 맞춤형 석영 유리 시트. 광학 응용 분야를 위한 절단, 굽힘 및 용접을 포함한 완전한 맞춤화가 가능한 0.5~100mm 두께로 제공됩니다.
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UV 투명한 쿼츠 유리판 99.99% SiO2 및 사용자 지정 크기로 녹은 실리카 엽
99.99% SiO2, >92% 광 투과율, UV 투명, 두께 0.5-100mm, 작동 온도 1150℃를 갖춘 고순도 용융 실리카 석영 유리 시트. 맞춤형 크기, JGS 표준, 내식성, 고온 내성, 강력한 전기 절연성.
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정밀 가공 뚫린 쿼츠 판 JGS1 JGS2 JGS3 반도체용 구멍 뚫린 쿼츠 판
반도체 응용 분야용 JGS1/JGS2/JGS3 등급의 정밀 가공 드릴 석영 플레이트입니다. 99.99% SiO2 순도, 1100℃ 작동 온도 및 맞춤형 펀칭/커팅 서비스가 특징입니다. 무료 샘플과 낮은 MOQ로 투명한 용융 실리카로 제공됩니다.
