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99.99% 고순도 품질 보증 투명 석영판 (실험실용)
반도체 및 연구용으로 사용되는 고순도 99.99% SiO2 석영 판으로 작동 온도가 1100℃이고 빛 투과율이 높습니다. 정확한 B2B 주문에 맞춤형 절단, 펀칭 및 무료 샘플이 제공됩니다.
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반도체용 구멍이 있는 CNC 가공 JGS1 JGS2 JGS3 용융 석영 판
융점 1732℃, 작동온도 1100℃의 고순도 99.99% 반도체용 석영판입니다. 맞춤형 펀칭, 커팅 및 무료 샘플을 제공합니다. 내구성이 뛰어나고 투과율이 높으며 도면에 정밀하게 가공되어 최적의 효율성을 제공합니다.
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UV 기기용 고순도 맞춤형 크기 연마 융합 실리카 석영 판
작동 온도 1100℃, 녹는점 1732℃의 고순도 99.99% SiO2 석영 판입니다. 맞춤형 크기, 펀칭, 절단 및 무료 샘플이 제공됩니다. 안정적인 내구성으로 UV 장비 및 반도체 응용 분야에 이상적입니다.
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실험실 광학 장비용 고품질 광학 용융 실리카 펀칭 석영 유리판
융점 1732℃, 작동 온도 1100℃의 고순도 99.99% 용융 실리카 석영 판입니다. 반도체 및 광학 장비에 이상적입니다. 맞춤형 펀칭, 커팅 및 무료 샘플이 제공됩니다. 내구성이 뛰어나고 효율적이며 정확한 사양에 맞춰 제작되었습니다.
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JGS1 광학 등급 고전도 닦은 쿼츠 유리판 레이저 창을 위한 융합 실리카 시트
JGS1 용융 실리카 플레이트는 >92% UV 투과율, >99.99% SiO2 순도를 제공하며 1150℃를 견딥니다. Mohs 6.5 경도와 0.5-100mm의 맞춤형 크기로 레이저 창 및 광학 장비에 적합합니다. 부식에 강하고 내구성이 뛰어납니다.
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고순도 석영 유리판 및 용융 실리카 시트 고온 내성 맞춤형 크기 광학 창
92% 이상의 광 투과율, 모스 6.5 경도 및 1150℃ 저항을 갖춘 고순도 용융 실리카 플레이트(SiO2>99.99%)입니다. 광학창 및 반도체에 이상적입니다. 맞춤형 크기, JGS1/2/3 표준 및 낮은 MOQ를 사용할 수 있습니다.
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내열성 내부식성 고투과율 석영 유리판 실험실 산업용 용광로용 용융 실리카 시트
92% 이상의 광 투과율, 모스 6.5 경도 및 1150℃ 작동 온도를 갖춘 고순도 용융 실리카 플레이트(SiO2>99.99%)입니다. 부식 방지 기능이 있어 실험실 및 산업용 용광로에 이상적입니다. 도면별로 맞춤형 크기, 모양, 모서리 유형을 제공하여 정확한 B2B 사양을 보장합니다.
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UV 고투과 석영 유리판 고순도 99.99% SiO2 용융 실리카 판 고온 내성 1150℃ 레이저 창용
UV 투과율이 92% 이상, SiO2가 99.99% 이상, 경도가 모스 6.5인 고순도 용융 실리카 플레이트입니다. 1150℃를 견디고 부식에 강합니다. 레이저 창 및 광학 장비에 사용할 수 있는 맞춤형 크기, JGS1/2/3 표준 및 모양 옵션이 있습니다.
