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반도체용 맞춤형 연마 레이저 드릴링 석영 유리 시트 고순도 석영 플레이트
반도체 응용 분야를 위한 99.99% SiO2 순도를 갖춘 맞춤형 연마 레이저 드릴링 석영 유리 시트입니다. 높은 내열성(1100℃ 작동 온도), 밀도 2.2g/cm3가 특징이며 무료 샘플을 통해 맞춤형 절단/펀칭을 지원합니다.
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내열 1200°C 석영 유리판 (광 투과율 >92%, SiO2 순도 99.99%) - 태양로용
작동 온도 1150℃, 광 투과율 92%, SiO2 순도 99.99%의 내열 석영 유리판입니다. JGS1/JGS2/JGS3 표준에 따라 0.5-100mm 두께로 제공됩니다. 태양열로, 실험실 및 산업 응용 분야를 위한 맞춤형 제조 옵션입니다.
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맞춤형 고순도 99.99% SiO2 석영 유리판 내열 1150°C 고광 투과율 >92% 실험실 반도체용
99.99% SiO2 순도, >92% 광 투과율 및 1150℃ 작동 온도를 갖춘 맞춤형 원형 석영 유리 디스크입니다. 직경 1~800mm, 두께 0.2~100mm로 제공됩니다. 내열성, 내부식성 및 반도체, 실험실 및 산업 응용 분야에 맞게 맞춤화할 수 있습니다.
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고 순수 99.99% 녹은 실리카 판 광학 쿼츠 창을위한 1732C 녹는점과 1100C 작업 온도
99.99% SiO2, >92% 광 투과율, 1732℃ 융점 및 1150℃ 작동 온도를 갖춘 고순도 용융 실리카 플레이트입니다. 펀칭/절단 옵션이 있는 맞춤형 크기(직경 1~800mm, 두께 0.2~100mm). 반도체, 레이저 및 광학 응용 분야를 위한 JGS 표준, 내식성, 고온 내구성.
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고순도 99.99% SiO2 쿼츠 유리판, 자외선 투명성 92% 이상, 고온 저항성 1150°C
99.99% SiO2 순도, >92% 광 투과율 및 1150℃ 작동 온도를 갖춘 맞춤형 석영 유리 시트. 광학 응용 분야를 위한 절단, 굽힘 및 용접을 포함한 완전한 맞춤화가 가능한 0.5~100mm 두께로 제공됩니다.
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UV 투명한 쿼츠 유리판 99.99% SiO2 및 사용자 지정 크기로 녹은 실리카 엽
99.99% SiO2, >92% 광 투과율, UV 투명, 두께 0.5-100mm, 작동 온도 1150℃를 갖춘 고순도 용융 실리카 석영 유리 시트. 맞춤형 크기, JGS 표준, 내식성, 고온 내성, 강력한 전기 절연성.
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정밀 가공 뚫린 쿼츠 판 JGS1 JGS2 JGS3 반도체용 구멍 뚫린 쿼츠 판
반도체 응용 분야용 JGS1/JGS2/JGS3 등급의 정밀 가공 드릴 석영 플레이트입니다. 99.99% SiO2 순도, 1100℃ 작동 온도 및 맞춤형 펀칭/커팅 서비스가 특징입니다. 무료 샘플과 낮은 MOQ로 투명한 용융 실리카로 제공됩니다.
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반도체 제조용 고온 저항성 JGS1 JGS2 JGS3 맑은 융합 실리카 쿼츠 유리 웨이퍼
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
