고순정 쿼츠 유리판: 재료 특성 및 산업용 - 에바
2026/09/12
고순도 석영 유리판: 재료 특성 및 산업 응용
융합 실리카(SiO₂ 순도 ≥99.99%)로 제작된 고순도 석영 유리판은 반도체, 광학 기기, 실험실 분석 및 UV 살균 산업에서 널리 사용되는 필수적인 광학 및 구조 재료입니다. 열, 광학 및 화학적 특성의 독특한 조합은 일반 소다석회 유리 및 붕규산 유리와 차별화됩니다.
핵심적인 장점 중 하나는 뛰어난 열 성능입니다. 석영 유리판은 5.5 × 10⁻⁷ /°C의 초저 열팽창 계수를 가집니다. 1100°C까지의 작업 온도를 지속적으로 견딜 수 있으며 급격한 열 충격에도 균열 없이 견딜 수 있어 고온 관찰 창 및 가열 캐리어 플레이트에 적합합니다.
광학적으로 UV 등급 석영 유리판은 심자외선, 가시광선 및 근적외선 대역에서 뛰어난 투과율을 제공합니다. UV 빛을 흡수하는 일반 유리와 달리 프리미엄 석영판은 254nm에서 UV 빛의 90% 이상을 투과하며, 이는 UV 소독 장비, 광화학 반응 플랫폼 및 분광 분석 기기에 중요합니다. 표면 마감 옵션에는 다양한 광학 및 밀봉 요구 사항을 충족하기 위한 연마, 정밀 연삭 및 화염 연마가 포함됩니다.
화학적으로 융합 실리카는 대부분의 산, 유기 용매 및 부식성 가스에 대해 강한 불활성을 나타냅니다. 불산과 뜨거운 농축 알칼리만이 재료를 침식할 수 있습니다. 반도체 제조에서 정밀 절단된 석영판은 웨이퍼 처리 중 금속 오염을 최소화하는 캐리어 기판 및 시창으로 사용됩니다. 기타 주요 응용 분야에는 태양광 장비, 레이저 시스템 및 생화학 테스트 챔버가 있습니다.
제조업체는 고객 도면에 따라 치수, 구멍, 노치 및 표면 처리를 맞춤 제작할 수 있습니다. 업계 관계자들은 UV 기술 및 고급 칩 제조에 대한 수요 증가가 향후 몇 년 동안 고품질 석영 유리판 시장 확대를 계속 주도할 것이라고 말합니다.
