| 유형 | Quartz 플레이트를 제거하십시오 |
|---|---|
| 어플리케이션 | 반도체, 광학 |
| 두께 | 0.5-100mm |
| 모양 | 정사각형 |
| 가공 서비스 | 펀칭, 절단 |
| 물자 | SIO2>99.999% |
|---|---|
| 조밀도 | 2.2 (g/cm3) |
| 가벼운 투과율 | >92% |
| 경도 | 모스 6.5 |
| 작동 온도 | 1100℃ |
| 상품명 | 정밀 유리 가공 |
|---|---|
| 재료 | SIO2 |
| 경도 | 모스 6.5 |
| 작동 온도 | 1100℃ |
| 표면 품질 | 20/40 또는 40/60 |
| 물자 | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| 가벼운 투과율 | >92% |
| 작동 Temparature | 1100℃ |
| 경도 | 모스 6.5 |
| 물자 | 99.99% |
|---|---|
| 가벼운 투과율 | 92% |
| 조밀도 | 2.2g/cm3 |
| 작동 Temparature | 1100℃ |
| 경도 | 모스 6.5 |
| 물자 | SiO2 |
|---|---|
| 경도 | 모스 6.5 |
| 작동 온도 | 1100℃ |
| 지상 질 | 20/40 40/60 |
| Dieletric 힘 | 250~400Kv/cm |
| 물자 | SIO2>99.999% |
|---|---|
| 조밀도 | 2.2 (g/cm3) |
| 가벼운 투과율 | >92% |
| 경도 | 모스 6.5 |
| 작동 온도 | 1100℃ |
| 종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
|---|---|
| 적용 | 광학적인 반도체 |
| 두께 | 0.5-100mm |
| 형태 | 사각형 |
| 처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
| 종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
|---|---|
| 적용 | 광학적인 반도체 |
| 두께 | 3-100mm |
| 형태 | 사각형 |
| 처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
| 이름 | 고온 석영 유리판 |
|---|---|
| 종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
| 적용 | 광학적인 반도체 |
| 두께 | 0.5-100mm |
| 형태 | 사각형 |
