종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
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적용 | 광학적인 반도체 |
두께 | 0.5-100mm |
형태 | 사각형 |
처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
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적용 | 광학적인 반도체 |
두께 | 0.5-100mm |
형태 | 사각형 |
처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
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적용 | 광학적인 반도체 |
두께 | 0.5-100mm |
형태 | 사각형 |
처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
상품 이름 | 정확성 글라스 기계가공 |
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재료 | SiO2 |
견고성 | 모스 6.5 |
작동 온도 | 1200℃ |
표면 품질 | 20/40 40/60 |
상품명 | 석영 유리판 |
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재료 | 99.99% |
빛 투과율 | 92% |
밀도 | 2.2g/cm3 |
작동 온도 | 1100℃ |
상품 이름 | 정확성 글라스 기계가공 |
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재료 | SiO2 |
견고성 | 모르스 6.5 |
작동 온도 | 1100C |
표면 품질 | 20/40 또는 40/60 |
상품 이름 | 석영 유리 막대 |
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재료 | Sio2>99.99% |
비중 | 2.2g/cm3 |
빛 트랜시미트턴스 | 92% |
견고성 | 모르스 6.5 |
이름 | XRD 석영 판 |
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유형 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
신청 | 화학 제품 |
두께 | 0.5-100mm |
모양 | 원형 형태 |
상품 이름 | 석영 유리판 |
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재료 | 99.99% |
광 투과율 | 92% |
비중 | 2.2g/cm3 |
일하는 온도 | 1100C |