제품 이름 | 둥근 석영 유리 |
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물자 | SIO2>99.99% |
조밀도 | 2.2g/cm3 |
경도 | 모스 6.5 |
작동 Temparature | 1150℃ |
종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
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적용 | 광학적인 반도체 |
두께 | 0.5-100mm |
형태 | 사각형 |
처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
키워드 | 과학 연구실 유리제품 |
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이름 | 절차 글라스 실험실은 석영 기구를 특화했습니다 |
소재 | 융합 실리콘 |
작업 온도 | 1100C |
산내성 | 도자기류 보다 30 배 |
종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
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적용 | 광학적인 반도체 |
두께 | 0.5-100mm |
형태 | 사각형 |
처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
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적용 | 광학적인 반도체 |
두께 | 0.5-100mm |
형태 | 사각형 |
처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |
키워드 | 과학 연구실 유리제품 |
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이름 | 절차 글라스 실험실은 석영 기구를 특화했습니다 |
소재 | 융합 실리콘 |
작업 온도 | 1100C |
산내성 | 도자기류 보다 30 배 |
재료 | 융합된 실리콘 |
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작동 온도 | 1250℃ |
산성 포용력 | 세라믹스 보다는 30배 |
견고성 | 모스 6.5 |
애플리케이션 | 실험실 테스트 |
이름 | 석영 유리 원판 |
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가벼운 투과율 | >92% |
비중 | 2.2g/cm3 |
작동 Temparature | 1100℃ |
견고성 | 모스 6.5 |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
종류 | 석영 판을 깨끗이 하세요 |
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적용 | 광학적인 반도체 |
두께 | 0.5-100mm |
형태 | 사각형 |
처리 서비스 | 강타하면서, 잘리기 |