| 물자 | 99.99% |
|---|---|
| 가벼운 투과율 | 92% |
| 조밀도 | 2.2g/cm3 |
| 작동 Temparature | 1100℃ |
| 경도 | 모스 6.5 |
| 물자 | SiO2 |
|---|---|
| 경도 | 모스 6.5 |
| 작동 온도 | 1200℃ |
| 지상 질 | 20/40 40/60 |
| Dieletric 힘 | 250~400Kv/cm |
| 상품명 | 정밀 유리 가공 |
|---|---|
| 재료 | SIO2 |
| 경도 | 모스 6.5 |
| 작동 온도 | 1100℃ |
| 표면 품질 | 20/40 또는 40/60 |
| 재료 | 99.99% |
|---|---|
| 가벼운 투과율 | 92 % |
| 비중 | 2.2g/cm3 |
| 작동 Temparature | 1100℃ |
| 견고성 | 모스 6.5 |
| SiO2 | 99.99% |
|---|---|
| 작동 Temparature | 1200℃ |
| 용해 점 | 1750-1850℃ |
| 사용법 | 실험실, 의학 생물학 |
| 색깔 | 투명한 |
| 이름 | 융합된 규산 유리 플랜지 |
|---|---|
| 크기 | 주문을 받아서 만드는 |
| 신청 | 광학 기기 |
| 조밀도 | 2.2g/cm3 |
| 특징 | 내식성 |
| 이름 | 융합된 실리카 석영 플랜지 |
|---|---|
| 특징 | 정확한 차원 |
| 신청 | 히이터 |
| 조밀도 | 2.2g/cm3 |
| 작동 온도 | 1100℃ |
| 유형 | Quartz 플레이트를 제거하십시오 |
|---|---|
| 적용 | 반도체, 광학 |
| 두께 | 0.5-100mm |
| 모양 | 둥근 |
| 처리 서비스 | 펀칭, 절단 |
| 유형 | Quartz 플레이트를 제거하십시오 |
|---|---|
| 적용 | 반도체, 광학 |
| 두께 | 0.5-100mm |
| 모양 | 둥근 |
| 처리 서비스 | 펀칭, 절단 |
| 유형 | Quartz 플레이트를 제거하십시오 |
|---|---|
| 어플리케이션 | 반도체, 광학 |
| 두께 | 0.5-100mm |
| 모양 | 둥근 |
| 가공 서비스 | 펀칭, 절단 |